Το στρώμα ηλεκτρολυτικής επίστρωσης μπορεί να προσφέρει αποτελεσματική προστασία για τα ουράνια και τα κράματα ουρανίου. Ο βασικός παράγοντας που επηρεάζει την αντιδιαβρωτική απόδοση της επίστρωσης στο υπόστρωμα είναι η πυκνότητα και η δύναμη σύνδεσης της επικάλυψης. Το υλικό χαράξεως χλωριούχου σιδήρου μπορεί να παρέχει κατάλληλη τραχύτητα επιφανείας έτσι ώστε η επικάλυψη να σχηματίζει έναν καλό μηχανικό δεσμό με το υπόστρωμα και είναι σχετικά σταθερό.
Σε διαλύματα νερού και χλωριούχου, η πυκνή επικάλυψη Ni επιδεικνύει κάποια φυσική προστασία του ουρανίου και των κραμάτων ουρανίου. Μόλις υπάρξουν πόροι, ο ρυθμός διάβρωσης θα αυξηθεί λόγω της τοπικής γαλβανικής διάβρωσης. Η επικάλυψη ψευδαργύρου παρέχει μια θυσιαστική άνοδο για την ηλεκτροχημική προστασία του ουρανίου και των κραμάτων ουρανίου. Η επίστρωση Ni + Zn με χρωμιωμένο παθητικό επιδεικνύει την καλύτερη φυσική προστασία και προστατευτική θωράκιση ανόδου για το ουράνιο και τα κράματα ουρανίου. Αν και η επίστρωση κράματος Zn-Ni έχει καλή αντοχή στη διάβρωση, μπορεί να προσφέρει διπλή προστασία για φυσικούς φραγμούς και θυσίες ανόδων για το ουράνιο και τα κράματα ουρανίου. Ωστόσο, υπάρχουν προβλήματα όπως η πυκνότητα και η παθητικοποίηση των επιχρισμάτων, τα οποία τα καθιστούν λιγότερο ανθεκτικά στα ουράνια και στα κράματα ουρανίου. Ni + Zn διπλή επίστρωση. Με την επιτυχή διερεύνηση της διαδικασίας ηλεκτρολυτικής επίστρωσης και παθητικοποίησης κράματος Zn-Ni, το κράμα Zn-Ni θα παίξει την ανώτερη αντιδιαβρωτική του απόδοση και θα εφαρμοστεί πλήρως στην αντιδιαβρωτική προστασία του ουρανίου και του κράματος ουρανίου.
Η αντιδιαβρωτική προστασία του ουρανίου και των κραμάτων ουρανίου έχει πρόβλημα κακής στεγανότητας στην επικάλυψη, η οποία οφείλεται κυρίως στην προσρόφηση μορίων υδρογόνου στην πλευρική αντίδραση της καθόδου στη διαδικασία επίστρωσης. Προκειμένου να βελτιωθεί περαιτέρω η συμπαγία του στρώματος επιμετάλλωσης και να βελτιωθούν οι φυσικές και χημικές ιδιότητες του στρώματος επιμετάλλωσης, μπορεί να χρησιμοποιηθεί παλμική επίστρωση για να ληφθεί ένα στρώμα επιμετάλλωσης με λεπτότερη κρυσταλλικότητα, χαμηλότερη εσωτερική τάση στο στρώμα επιμετάλλωσης και χαμηλότερη περιεκτικότητα σε υδρογόνο. Επιπλέον, πρέπει να χρησιμοποιείται γαλβάνισμα χωρίς κυανιούχο για την εξάλειψη του κινδύνου από το κυάνιο